建议把meter控件的刻度变量lv_meter_scale_t改为全局变量,这样软件就能动态修改meter控件的刻度盘。谢谢!

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建议把meter控件的刻度变量lv_meter_scale_t改为全局变量,这样软件就能动态修改meter控件的刻度盘。谢谢!

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alen-liao
Contributor III

现有meter控件的刻度变量lv_meter_scale_t为局部变量,仪表程序无法适应用户变量单位变化。如果改为全局变量,就能动态改变仪表的刻度。譬如仪表的刻度单位从KPa变为Psi,或从摄氏度改为华氏度等。谢谢!

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alen-liao
Contributor III

如果screen_1_meter_1_scale_0不是全局变量,程序就无法修改了。每次编译产生的新代码都要自己把编译出来的screen_1_meter_1_scale_0变量改为全局变量,并手工增加修改量程的代码。这样就很麻烦了。如果GUIDER输出代码时,screen_1_meter_1_scale_0就是全局变量,那就不存在这些问题了。

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Alex_Wang
NXP Employee
NXP Employee

Hi, @alen-liao 

感谢您提供的建议,我们将会在下次的更新中进行添加。

Best regards, Alex

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Alex_Wang
NXP Employee
NXP Employee

Hi, @alen-liao 

您好,非常感谢您的建议,的却meter里面想要修改刻度盘量程需要修改很多参数,将lv_meter_scale_t *screen_1_meter_1_scale_0 = lv_meter_add_scale(ui->screen_1_meter_1);设置全局后,增加自己需要的刻度量程代码,我认为如果只想修改刻度值的量程,修改影响量程的几个代码也可以实现,这是我个人的建议,再次感谢您提供的建议,我会向GUI Guider积极反馈。

Best regards, Alex

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